设备型号：日本日立SU8010

功能简介：

1、形貌分析，通过二次电子可以对样品的微观形貌、粒径、分散性进行表征成像，可用于金属材料、薄膜材料、半导体材料、陶瓷材料、生物组织等形貌像的观察，同时还可对材料断口和失效表面进行分析。

2、微区成分分析，通过对样品微区成分进行定性、定量分析，可确定样品的元素组成。

技术参数：

1、信号模式：二次电子模式和背散射模式

2、分辨率：1.0nm（加速电压15kV、WD＝4mm、普通模式）1.3nm（加速电压1kV、WD＝1.5mm、减速模式）

3、加速电压：0.1～30kV

4、观测倍率：30倍～80万倍

样品要求：

非磁性、干燥样品，尺寸在直径50mm，高度10mm内

典型案例：

金颗粒与氧化铜复合物的微观形貌（放大1万倍）

菊花状氧化锌的二次电子成像（放大7千倍）

存放地址：北区教40-104A